掃描電鏡二次電子成像的深度焦點(diǎn)是什么
日期:2023-09-04
掃描電鏡二次電子成像通常具有較淺的深度焦點(diǎn),這意味著它對(duì)樣品表面上的微小結(jié)構(gòu)和拓?fù)涮卣骶哂休^好的分辨率,但不適用于深度信息的獲取。這個(gè)深度焦點(diǎn)是由于以下幾個(gè)原因:
次級(jí)電子的產(chǎn)生機(jī)制: 在SEM中,二次電子主要是由高能電子束與樣品表面相互作用產(chǎn)生的。這些次級(jí)電子是從樣品表面相對(duì)較淺的區(qū)域產(chǎn)生的,通常只有幾納米到數(shù)十納米的深度。因此,SEM的深度焦點(diǎn)主要位于樣品表面附近。
電子束的聚焦: SEM中使用的電子槍和透鏡系統(tǒng)是為了將電子束聚焦到樣品表面附近,以獲得高分辨率的表面成像。這意味著電子束的焦點(diǎn)是在樣品表面,而不是在樣品內(nèi)部。
樣品導(dǎo)電性: SEM對(duì)于導(dǎo)電性樣品的成像效果更好,因?yàn)閷?dǎo)電性樣品可以更有效地導(dǎo)出次級(jí)電子。非導(dǎo)電性樣品可能需要額外的處理,如金屬涂層,以獲得清晰的成像。
雖然SEM的深度焦點(diǎn)通常較淺,但可以通過調(diào)整電子束的能量、樣品的傾斜角度或使用其他成像模式(例如背散射電子成像)來(lái)增加深度焦點(diǎn)。
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作者:澤攸科技