掃描電鏡通常適用于成像小至納米尺度的樣品表面，而不適用于大樣品的全尺寸成像。這是因為SEM的成像原理和操作限制了其適用于大樣品的能力。以下是一些主要的因素：

深度焦點： SEM的成像方式基于電子束的掃描，它在樣品表面上獲取圖像，但通常不支持深度焦點。這意味著只有樣品表面的一小部分可以在某一時刻處于焦點，而不同深度的區(qū)域會失焦。對于大樣品，深度焦點問題會導致不同區(qū)域的清晰度差異。

工作距離： SEM的工作距離通常在數(shù)毫米到數(shù)十毫米之間，較短。這使得它難以覆蓋大樣品的整個表面。對于大樣品，可能需要多次移動和調(diào)整樣品位置，以獲取完整的圖像，這增加了成像時間和難度。

樣品準備： 大型樣品的制備和處理可能更加復雜，需要特殊的樣品支架和準備步驟。樣品表面的導電性也可能成為問題，需要額外的處理。

雖然SEM不適合大樣品的全尺寸成像，但可以使用多個圖像拼接技術，通過多次掃描和圖像拼接來獲得大樣品的全景圖像。這種方法可以用于觀察大型樣品的表面結構，但需要額外的操作和后期處理。

ZEM15臺式掃描電子顯微鏡

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