在掃描電鏡（SEM）中，為了增強(qiáng)樣品的導(dǎo)電性，常常需要對(duì)樣品進(jìn)行金屬涂層。這主要是因?yàn)閽呙桦婄R對(duì)樣品的導(dǎo)電性要求較高，而一些非導(dǎo)電性或弱導(dǎo)電性的樣品表面容易產(chǎn)生電荷積累，影響圖像質(zhì)量。以下是處理樣品的金屬涂層的基本步驟：

樣品準(zhǔn)備： 準(zhǔn)備需要觀察的樣品，確保其表面光滑、干燥且無(wú)塵。

真空處理： 將樣品放入真空室中。在真空條件下進(jìn)行金屬涂層是為了確保金屬薄層均勻地沉積在樣品表面，減少空氣對(duì)涂層的干擾。

樣品預(yù)處理： 在涂層之前，一些樣品可能需要進(jìn)行預(yù)處理，如清洗和去除表面油污。這有助于確保金屬薄層能夠附著在樣品表面。

金屬噴鍍： 使用金屬噴鍍儀器，在真空條件下將導(dǎo)電性較好的金屬（通常是金、鉑、銀、銅等）薄層均勻地噴鍍?cè)跇悠繁砻嫔稀＿@個(gè)過(guò)程中，金屬原子會(huì)沉積在樣品表面，形成一個(gè)導(dǎo)電性薄層。

金屬沉積時(shí)間： 控制金屬沉積的時(shí)間以確保形成足夠的導(dǎo)電性層。時(shí)間過(guò)長(zhǎng)可能導(dǎo)致金屬層過(guò)厚，影響SEM觀察。

取出樣品： 在金屬沉積完成后，將樣品從真空室中取出。此時(shí)樣品表面已經(jīng)形成一層金屬薄層，提高了導(dǎo)電性。

請(qǐng)注意，金屬涂層的厚度應(yīng)該足夠以提高樣品的導(dǎo)電性，但也要避免過(guò)度厚度，以免影響樣品表面的形貌和結(jié)構(gòu)觀察。整個(gè)金屬涂層過(guò)程需要在合適的設(shè)備和條件下進(jìn)行，確保SEM觀察的準(zhǔn)確性和可靠性。

ZEM20臺(tái)式掃描電鏡

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